Samsung, 1nm süreci için hedefini 2029 yılına çevirdi. Bu süreç, yalnızca gelişmiş mühendislik değil, aynı zamanda büyük bir yatırım gerektiriyor. Şirket, bu teknoloji için High-NA EUV litografi ekipmanlarını kullanmayı planlıyor. Ancak şu ana kadar bu ekipmanların siparişiyle ilgili somut bir gelişme yaşanmadı. Son raporlar, Samsung'un 1.4nm sürecinden vazgeçtiğini, kaynakları ve insan gücünü 2nm ve 1nm çalışmalarına yönlendirdiğini belirtiyor.

2nm sürecinde ise Samsung'un deneme üretimlerinde verimlilik oranı yaklaşık yüzde 30 civarında. Bu, 3nm'ye kıyasla bir iyileşme anlamına gelse de, TSMC'nin ulaştığı seviyenin gerisinde kalıyor. TSMC'nin 2nm üretim siparişlerini Nisan başında kabul etmeye başladığı gündemde. Ayrıca, TSMC'nin 1.4nm süreci üzerinde de aktif olarak çalıştığı biliniyor.

Samsung'un ilk 1nm yongasını başarıyla üretmesi hâlinde bile seri üretime geçişin zaman alacağı aşikar. 2029 yılına kadar önemli üretim zorluklarıyla karşılaşması muhtemel. Ancak bu süre zarfında High-NA EUV teknolojisinde sağlanacak gelişmeler, Samsung'un yarıştaki konumunu belirleyebilir.